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外延片参数第1层厚度：250-350nm第2层厚度：200±20nm第2层载流子浓度：1~3×1017cm-3衬底参数掺杂：Fe晶面：（010）双晶摇摆半高宽：≤350“尺寸：10mm×15mm尺寸偏
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1246 | 江苏 |
晶圆产品参数掺杂：Sn导电性：n晶面：(100)双晶摇摆半高宽：≤250”载流子浓度：≥1×1018cm-3位错密度：<1×105cm-2目前参考尺寸：4inch参考边：[010]方向加工指标：
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1306 | 江苏 |
Endurance红外传感器具有坚固的不锈钢外壳，可在65℃的环境温度下无需冷却即可达到IP65(NEMA4)防护等级要求。关键指标宽广的测温范围：250to3200°C(122to5792°F)距离
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1502 | 进口 |
光纤式测温系统•4年质保期•测温范围广250to3200°C(482to5792°F)•瞄准选项：激光瞄准-定焦距•高精度的光学分辨率100:1•PoE接口的LAN/Ethernet通讯方式（ASCI
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1580 | 进口 |
雷泰MM在线式红外测温仪新型MM传感器的优点：雷泰MM在线式红外测温仪实时视频监控和记录功能更宽的温度测量范围：-40~3000℃/-40~5432℉集单镜头反光式取景器（TTL）和视频或激光瞄准等多
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1498 | 进口 |
晶圆产品参数电学参数UID：1×1016~5×1017cm-3；Sn：≥1×1018cm-3；Fe：绝缘≥1×1010Ω·cm晶面：(100)电学参数UID：1×1016~5×1017cm-3；Sn：
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1327 | 江苏 |
双比色测温仪E1RL-F1-L-0-0双色测温仪ENdurance型号分为：E1RL-F1-L-0-0E1RL-F2-L-0-0E1RL-F1-V-0-0E1RL-F2-V-0-0E1RH-F1-L-
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1424 | 进口 |
EXACTUS®光学高温计主要设计用于OEM晶圆温度测量应用，在非接触式温度测量方面具有显著的性能优势。许多正在申请的**涵盖了这些突破，这些突破在准确性、可重复性和稳定性方面具有行业**的性能。我们
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1323 | 进口 |
加工指标晶面偏差：<±0.5°；厚度:0.5mm±0.05mm；表面抛光：单面抛光；表面粗糙度：抛光面Ra<0.5nm产品外形示意图
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1134 | 江苏 |
EXACTUS®光学温度传感器*初设计用于半导体温度测量应用，在非接触式温度测量方面具有显著的性能优势。EXACTUS®高温计的应用包括半导体、容器玻璃、玻璃纤维拉拔、塑料焊接、工业加热、激光和超声医
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1825 | 进口 |
钽粉（纯度99.99%，粒径：1um）可根据用户要求，加工订制不同粒度的产品。主要用于等离子喷涂，合金添加剂，超硬材料，粉末冶金，粉末成型，含钽合金制品。
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1991 | 上海 |
我司钽颗粒通过多次提纯和特殊表面处理，尺寸规整、纯度高，在使用中，无需高温处理，也可满足需求。钽颗粒具有优异的稳定性、化学惰性，在极高温度下，具有优异的碳吸附性能，可以吸附坩埚中过量的碳元素，减少晶体
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1367 | 上海 |
电学参数UID：1×1016~5×1017cm-3；Sn：≥1×1018cm-3；Fe：绝缘≥1×1010Ω·cm晶面：(010)产品外形示意图
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1017 | 江苏 |
晶片产品参数电学参数UID：1×1016~5×1017cm-3；Sn：≥1×1018cm-3；Fe：绝缘≥1×1010Ω·cm晶面：(100)双晶摇摆半高宽：≤150”位错密度：<1×105cm
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1213 | 江苏 |
高纯石墨软毡，主要应用于三代半导体我司产品经多家衬底厂家验证，在稳定4H晶型、减少碳包裹、提升衬底良率等方面优势明显。
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1399 | 上海 |
纯度高，较其他品牌，我司硅化铈严格控制铈、硅摩尔比为1:2；硅化铈在长晶过程中，可以有效稳定4H晶体，提成衬底良率。产品名称硅化铈纯度99.99%CASNumber12014-85-6熔点1620°C
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1522 | 上海 |
我们秉承“以光为本，潜心专研”的理念，致力于打造一家知名的半导体晶圆检测设备企业。
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1011 | 浙江 |
公司坐落于杭州市集成电路产业园，工厂设有洁净车间，用于集成电路级硅片缺陷检测设备的研发制造及样品测试。公司在中国及日本均设有研发制造中心，不仅拥有雄厚的检测设备研发能力，也拥有良好的海外市场途径。通过
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1108 | 浙江 |
杭州光研科技有限公司成立于2022年，是一家专注于半导体晶圆检测设备的研发、生产及销售的高新科技企业。全自动硅片缺陷检测设备全自动硅片缺陷检测设备全自动硅片缺陷检测设备全自动硅片缺陷检测设备
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1103 | 浙江 |
全自动硅片缺陷检测复合机全自动硅片缺陷检测复合机全自动硅片缺陷检测复合机
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1028 | 浙江 |
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