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ZHDS500真空镀膜机广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。
 
973 河北
一、产品特点/用途:大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率。二、产品参数:
 
817 河北
日本suiden洁净室用清洁集尘机SCV-105日本suiden洁净室用清洁集尘机SCV-105干式洁净室用・电源単相100V·ULPA过滤器+纸盒过滤器・软管直径Φ34
 
1173 日本
日本MARUWA丸和高导热性氮化铝粉填料ANF-A-01-F日本MARUWA丸和高导热性氮化铝粉填料ANF-A-01-F氮化铝是一种以高导热性和绝缘性为特征的材料,用作混入树脂中的散热填料。随着电子设
 
1916 日本
宜兴宏焰窑炉科技有限公司坐落于江苏省宜兴市,是一家从事窑炉搬迁、维修、技术服务外包、耐火材料及窑炉配件销售的专业型工程公司。核心团队成员均来自于国内中大型窑炉生产厂家的设计总工、生产总监、电气总工,在
 
1019 江苏
日本住友sumitomo生物领域研究用高纯度氧化铝粉末AES11C日本住友sumitomo生物领域研究用高纯度氧化铝粉末AES11C这是一种高纯度氧化铝粉末,纯度为99.7%,氧化镁含量较低,广泛应用
 
1424 日本
日本住友sumitomo陶瓷高纯氧化铝粉末AKP-15日本住友sumitomo陶瓷高纯氧化铝粉末AKP-15本公司生产的高纯度氧化铝是通过阿尔兹美尔法(AluminaMelting)加水分解工艺制造的
 
1506 日本
一、产品概述:该机采用液压手动驱动,分体式结构,丝杠悬吊上加热板,具有加压快、工作空间更大吨位更大,适用于更大物件样品热压试验。二、技术参数:1、压力范围:0-30T/0.1t(吨位可调60T,精度可
 
1675 上海
一、产品特点/用途:1.大面积,复合型,批量制备,洁净真空不同功能复合涂层制备,可获得更高电池转换效率。2.广泛用于钙钛矿太阳能电池及复合功能薄膜材料制备等应用。3.技术先进、设计优化,性价比高,性能
 
922 河北
一、功能描述:特点/用途该系统为高真空新型阴极弧源+磁控溅射+离子源及直流脉冲偏压电源辅助联合镀膜系统,该系统广泛用于精密刀具和模具或轴承等外表面内表面上沉积高性能耐磨擦、耐腐蚀陶瓷、金属功能导电薄膜
 
907 河北
高真空多靶镀膜系统JCPY500真空溅射腔室:Ф500×H500mm;溅射室:8.0×10-5Pa(空载,经烘烤除气后);工作方式:各靶可独立/顺次/共同工作,采用磁控靶从上向下溅射镀膜;脉冲偏压:-
 
928 河北
日本住友sumitomo进口高纯度氧化铝粉HPA日本住友sumitomo进口高纯度氧化铝粉HPA
 
1091 日本
设备主要技术参数:1.真空腔室Ф500×H420mm,304优质不锈钢,前开门结构;2.真空系统复合分子泵+直联旋片泵+高真空阀门组合的高真空系统,数显复合真空计;3.真空极限6.0×10-5Pa(设
 
987 河北
一、整机简述:特点/用途该设备主机与控制一体化设计,PLC触摸屏控制,操控方便,结构紧凑,占地小;设备广泛应用于高校、科研院所的教学、科研实验以及生产型企业前期探索性实验及开发新产品等,深受广大用户好
 
1321 河北
一、整机简述:特点/用途JCP200设备设备体积小,真空获得快,功能强大,使用成本低;PLC触摸屏控制,操控方便该设备标配1只平面靶,另预留1对蒸发电极接口,能够溅射蒸发两用(磁控溅射与蒸发镀不能同时
 
1077 河北
一、功能描述:1.可用于沉积金刚石涂层厚膜,直径200毫米的基片上厚度可达到毫米级;2.可用于沉积刀具涂层,例:纳米涂层、DLC等;3.可用于沉积模具涂层,例:拉丝模、紧压模等;4.可用于开发导电涂层
 
890 河北
一、产品特点:设备采用热丝化学气相沉积技术,已应用于国内多家掺硼BDD污水处理电极开发及应用。二、主要用途:用于硅、C铌、钛等电极表面沉积BDD电极等,主要用于生活污水处理电极应用及其它应用三、适用范
 
941 河北
管式化学气相沉积设备100/CVD200镀膜方式:化学气相沉积;真空腔室结构:高纯石英管/耐温耐腐蚀不锈钢;真空腔室尺寸:Φ100mm×L1000mm、Φ200mm×L1600mm;基片台尺寸:2英寸
 
834 河北
等离子增强化学气相沉积实验系统极限真空:≤6.67x10-5Pa(经烘烤除气后);频率:13.56MHz;控制方式:手动逻辑控制;气路系统:4路进气及不锈钢管路、截止阀等;设备主要用途:该系列设备应用
 
1011 河北
10吨/小时工业盐气流干燥系统干燥前原料盐含水量:0.2%干燥后原料盐含水量:≤0.01%物料输送高度:约25米。干燥管出口风温:180℃热风炉出口温度:380-450℃干燥盐出口温度:90-120℃
 
1245 常州