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300目石墨粉满足半导体和电子工业行业用特殊材料的需要。
300目石墨粉原料中含有的主要杂质成分是K、Na、Mg、Fe、Ca等的硅酸盐矿物，可以通过高温法将这部分杂质进行有效去除。高温法能实现Fe、Ca、Na等杂质及其化合物的去除，同时B、Al、V在较低温度范围内会形成高熔点、高沸点的碳化物，如B4C、VC等，这类杂质一般的高温法是无法去除的，对石墨粉的进一步提纯就是需要采取有效手段去除这些关键杂质。
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