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Gas loop-V靶电压气体闭环控制器是一种单通道靶电压信号输入，可控制多通道输出气体闭环控制系统，根据等离子体状态，快速调节反应气体流量。

工作模式有三种：滞回曲线模式、闭环反馈控制模式、恒定气体流量模式。控制软件操作采用电脑，Windows视窗界面控制，网络通讯接口，可以实现远程诊断功能。

适用于反应溅射中，稳定工作点或实现高沉积速率；对多层膜或分段沉积，通过界面控制就可以完成。搭配快速气体流量计控制器MFC，简单易用的软件界面，具有高性价比和高可靠性等特点。