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KF1400系列马弗炉以U型硅碳棒为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料（氧化铝含量95%以上），双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，该炉
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1181 | 天津 |
这款马弗炉以优质电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温系统，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，能快速升降温，40分钟内能达到1000度。该炉具有温场均衡、表面温度低、升降
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1499 | 天津 |
设备特点...镀膜室真空室结构真空室为卧式方形，室体为304不锈钢制造。极限压力镀膜室5×10-4Pa工作压力镀膜室2.5×10-1Pa（可调）抽真空时间(空载)大气到8×10-3Pa≤30分钟抽真空
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911 | 广东 |
机型：XHEB系列精密光学电子枪蒸镀系统专门为精密光学薄膜器件镀膜而设计，各系统设计和整体结构满足光学薄膜生产工艺要求设备特点真空指标：极限真空：5.0E-5Pa（洁净空载、有伞架、有护板、无基板情
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1262 | 广东 |
设备特点...•大面积镀膜，多室多靶位，灵活性大;•磁导向传输系统，平稳可靠;•镀膜前有离子源对基片进行表面清洗和活化，提高附着力，改善膜层质量;•真空室加Polycold捕集水蒸汽，提高抽气能力;•
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1070 | 广东 |
机型：XHV系列钙钛矿真空镀膜设备是钙钛矿太阳能电池制备中的关键设备之一。通过镀膜技术，可以制备出高质量的钙钛矿层、电子传输层、空穴传输层等关键结构，提高电池的光电转换效率和稳定性。除了钙钛矿太阳能电
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1212 | 广东 |
第三代半导体外延设备机型：QDE系列外延设单腔/多片（最大3×8Inch）+洁净真空机械手搬运，•各盘独立控温，控温精度高；•水平层流布气+分子泵排气，控制气体分布均匀；•工艺进程实时监控，精准控制参
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1211 | 广东 |
Martrix520的成型幅面高达298x165x320mm，其采用工业级高标准光路系统，配备自主研发的一体成型透镜技术，打印过程中光源均匀性高达90%+，可实现平行度的再次升级。同时其搭载联泰科技自
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993 | 上海 |
卧式螺旋卸料离心分级机(下称离心分级机)是一种高速旋转设备。在操作和维护该设备时一定要严格遵守操作和维护保养规程,，以确保设备安全可靠地运行；在出厂前，所有设备都经过了试运转以确保出厂设备能可靠运转，
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1214 | 江苏 |
ZD2000F分级系统现代社会使用0.1-5微米之间的超细材料越来越多，例如陶瓷、涂料、塑料、化合物、纤维、薄膜、颜料和研磨物料。这样大小的颗粒、原料和其它预备的材料可以经精细研磨制成或者由非常昂贵且
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985 | 江苏 |
WLP-216G平均粒度仪简介及应用范围WLP-216G系列为第5代气体透过法粒度测定仪（平均粒度仪），是测定金属、非金属及其化合物粉末的比表面积和粒度的仪器。可广泛应用于粉末冶金、精细化工、硅酸盐工
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1942 | 辽宁丹东 |
BUCHIG-300玻璃炉系统，一套设备，两种型号，四种应用，广泛应用于各种化学物质的干燥/蒸馏/升华/冻干处理，适合于微量样品处理。BUCHIG-300玻璃炉系统的产品特点加热管具有半导体涂层，可确
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3354 | 瑞士 |
概况华锦新材生产的长晶炉用石墨加热器、石墨坩埚、石墨导流环等专用石墨制品，可以满足不同部件的使用要求。产品优势高密度、高强度、微细结构、材料均质性、批次稳定性、优异的抗硅蒸气腐蚀性。特种石墨材料在碳化
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1178 | 山东 |
概况华锦新材公司生产的TaC涂层专用特种石墨基材，能与TaC涂层的热膨胀在不同温度下（20-200℃：5.9*10-6/K；20-600℃：6.3*10-6/K；20-1600℃：7.1*10-6/K
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1267 | 山东 |
概况华锦新材可生产不同型号异型发热体、棒状发热体等产品。应用领域：高温石墨化炉、高温纯化炉、真空烧结炉组件。产品优势高耐热性、极高强度、低电阻、抗氧化性优良、使用寿命长。发热体用特种石墨是一种具有独特
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1018 | 山东 |
概况玻璃热弯模具用特种石墨应具有卓越的耐高温性能，能在玻璃热弯所需的高温环境下保持稳定而不损坏。其良好的热传导性可以使热量快速均匀分布，有利于玻璃受热均匀，确保热弯质量。产品优势1、热膨胀系数与热弯玻
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1089 | 山东 |
产品优势高强度、高硬度、自润滑性好、耐磨损、耐低温和高温性好、化学稳定性好、使用寿命长。密封用特种石墨材料具有以下突出特点：1、这种石墨材料具有出色的耐高温性能，能在高温环境下长时间保持稳定，适应各种
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1054 | 山东 |
产品优势高强度、高密度、高纯度、结构均质、微细孔结构、抗熔盐浸渗核石墨材料是用于核工业领域的特种石墨材料。1、它具有极高的纯度，以减少杂质对核反应的不良影响。2、核石墨具有非常优异的耐高温性能，能在核
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1010 | 山东 |
一、设备名称、型号：MBF40-10N型气氛箱式炉二、应用领域：主要用于锂电正负极材料的烧结工艺，也可用于磁性材料、电子器件、电子陶瓷等产品的烧结工艺。三、技术指标与基本配置3.1额定温度：850℃；
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1962 | 合肥 |
一、设备名称、型号：MBF22-10N型中温气氛箱式炉二、技术指标与基本配置2.1额定温度：850℃；2.2**温度：1000℃；2.3有效尺寸：330mm×200mm×330mm（W×H×D）；2.
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2311 | 合肥 |
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