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产品性能我司碳化锆纯度高、粒径小、分布均匀，比表面积大、高表面活性，松装密度低,具有耐高温、抗氧化、强度高、硬度高、导热性良好，韧性好，它是一种重要的高熔点、高强度和耐腐蚀的高温结构材料，并具有高效吸
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954 | 安徽 |
GPW/GAW系列搭载全新OSP-P300G，非专业人员也能轻松操作机床。以稳定的高精度磨削用于汽车和摩托车、液压设备、家电等的小型零部件。紧凑型磨床专门加工小型工件，实现高精度批量生产加工。•采用砂
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1323 | 日本 |
产品特点1.碳化钒是一种冶金和化工行业所常用的材料，其结构式为VC，为面心立方NaCl型晶体结构，晶格常数a=0.4165nm。主要成分是C和V，另外还有少量的Mo、Ni、Fe等。按照对碳化钒的化学成
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957 | 安徽 |
二氧化锗稀土氧化物，纯度99.999%。产量较低，价格偏高，主要应用于科研领域。包装储存本品为充惰气塑料袋包装，密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜暴露空气中，防受潮发生氧化团聚，影响分散性能和使用效果
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1014 | 安徽 |
PARSTAT3000A-DX是普利斯顿仪器中一款性价比高的研究型双通道电化学工作站系统。体积小巧，有限的占地面积让它可以在手套箱中使用，满足特殊实验气氛的应用。标准配置的6线辅助分压测试功能，可以实
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991 | 美国 |
636A选转还盘电极636A选转环盘电极适用于动力学调制系统。固态伺服控制使得电极的转速与输入信号保持一致。这种优异的性能归结为高转速低惯性，永磁马达和高电压，双极性电源。转速可调，范围在50-100
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714 | 美国 |
VersaScan微区扫描电化学工作站是一个建立在电化学扫描探针的设计基础上的，进行超高测量分辨率及空间分辨率的非接触式微区形貌及电化学微区测试系统。它是提供给电化学及材料测试以极高空间分辨率的一个测
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1063 | 美国 |
本产品适用于航空航天材料、仪器仪表材料、电工电子产品、各种电子元器件在恒温和恒湿环境下检测其各项性能指标基本参数：•型号：ZC-TH30•容积：30L•内箱尺寸：300340300（WHD)mm•外箱
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680 | 中国 |
产品特点：人性化设计全新无氟设计，使你始终走在健康生活的前面。采用多段可编程触摸屏控制器，菜单式界面，操作简便。可以简化复杂的试验过程，真正实现自动控制和运行。箱体左侧有直径50mm或100mm测试孔
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1146 | 中国 |
NMC508M为高密度等离子体刻蚀机，适用6/8英寸金属干法刻蚀工艺。具备良好的铝线形貌控制能力、高刻蚀速率、高刻蚀均匀性、低颗粒/缺陷等性能优势。该机台为多腔室集群设备，含金属腔和去胶腔组合，可全自
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801 | 中国 |
产品特点纳米铌粉，熔点2468℃，沸点4742℃，密度8.57g/cm3。室温下铌在空气中稳定，在氧气中红热时也不被完全氧化，高温下与硫、氮、碳直接化合，能与钛、锆、铪、钨形成合金。不与无机酸或碱作用
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1588 | 安徽 |
产品特点氧化镝，化学式是Dy2O3，白色粉末，微有吸湿性，在空气中能吸收水分和二氧化碳，磁性比氧化高铁强许多倍，主要用于照明光源。相对分子质量373.00，相对密度(d274)7.81，熔点2340±
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953 | 安徽 |
产品特点纳米铋粉，灰黑色粉末，不溶于水，密度9.18克/立方厘米，熔点271度，沸点1560度。产品应用1.金属纳米润滑添加剂：添加0.1~0.5%纳米铋粉至润滑脂，在摩擦过程中使摩擦副表面形成自润滑
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931 | 安徽 |
NMC508RIE为电容耦合等离子体干法刻蚀机，适用6/8英寸介质层刻蚀工艺，具有高刻蚀速率和均匀性，工艺类型覆盖前道和后道所有介质刻蚀。该机台为多腔室集群设备，可全自动并行工艺、易维护、性能稳定、产
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624 | 中国 |
EPEEi200系列主要用于6/8英寸氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃等薄膜沉积工艺，平台式多反应腔架构，兼容Si、SiC、GaAs等不同衬底材料，广泛应用于集成电路、化合物半导体、功率
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578 | 中国 |
EstherE320R主要用于体硅外延、埋层外延、选择性外延等多种特色工艺的运行。该设备主要由传输系统模块、工艺腔室模块、压力控制模块等组成。精准的压力、气流场与温场控制，保证了外延片良好的工艺性能，
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561 | 中国 |
产品特点纳米铋粉，灰黑色粉末，不溶于水，密度9.18克/立方厘米，熔点271度，沸点1560度。产品应用1.金属纳米润滑添加剂：添加0.1~0.5%纳米铋粉至润滑脂，在摩擦过程中使摩擦副表面形成自润滑
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939 | 安徽 |
产品特点1.氧化铜可溶于稀酸、NH4Cl、(NH4)2CO3、氰化钾溶液，不溶于水，在醇、氨溶液中溶解缓慢。高温遇氢或一氧化碳，可还原成金属铜；2.纳米氧化铜具有比大尺寸氧化铜粉体更优越的催化活性和选
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1185 | 安徽 |
HORICL200LPCVD系统，主要用于半导体产线8英寸及以下晶圆淀积SiN、POLY、SiO₂等薄膜，设备工艺性能好、产能大、可靠性高，可满足半导体领域的多种产线需求。设备包含净化工作台、炉体机箱
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783 | 中国 |
产品特点纳米二氧化钛（化学式:TiO2，式量:79.87）白色粉末。熔点1840℃，沸点2900℃，密度4.26g/mL（25℃），折射率2.61。常温常压下稳定。不溶于水，不溶于盐酸、硝酸和稀硫酸。
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952 | 安徽 |
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