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产品名称氧化亚镍主要成分氧化亚镍有效成分含量99.9%外观性状粉末比表面积500㎡/g产品晶型金红石型粒度/目数10000目
 
2201 浙江
产品名称纳米氧化锑锡有效成分含量99.9%用途范围化纤用含量99.9外观蓝色粉末规格或纯度≥99.5%
 
1918 浙江
热等静压机的优点安全和高生产率是Quintus压机设计的核心要素。高速冷却以及出色的温度均匀性、****的炉体设计和全数字化连接,让您能够灵活控制生产流程和成品。****的耐久性过去的40年来我们安装
 
3238 上海
产品名称二氧化铈主要成分二氧化铈有效成分含量99.9%用途范围涂料用外观性状粉末比表面积100㎡/g颜色淡黄色
 
2160 浙江
品牌雨木纳米CAS号409-21-2分子式SiC产品名称α碳化硅有效成分含量99.9%执行标准国标粒度/目数10000目外观性状粉末主要成分SiC颜色黑色分子量55.25
 
3429 浙江
分子式AlN产品名称氮化铝有效成分含量99.9%执行标准国标粒度/目数1000目外观性状粉末主要成分氮化铝颜色灰色
 
3890 浙江
PVD涂层对产品的表面洁净度的要求极高,因此涂层的前处理很大程度上决定了涂层的品质。星弧的涂层前处理设备和方案是确保涂层品质和稳定性的关键设备,同时也是配合其涂层工艺的专用设备。常规前处理技术包括:多
 
1985 江苏
涂层中心的辅助设备包括循环冷却系统,洁净压缩空气系统,工作区域空气循环系统。PVD涂层设备的正常运转需要专用的辅助设备支持,这些辅助设备的选择和设计在很大程度上决定涂层的品质和效率。星弧可根据客户的具
 
1555 江苏
星弧涂层厚度测量仪Starspherics-02是一款可用于各种薄膜和涂层厚度的测量仪器,所测量的涂层不受成份、硬度等各种因素的限制。操作简单,维护成本较其它类型的测厚仪更低。Starspherics
 
1788 江苏
纯度99.9特性高纯超细形貌球型产品名称纳米银粉CAS编号7440-22-4分子量107.87
 
3009 浙江
密度2.29g/cm³有效成分含量99.9%形状六方含量&ge99.99%分子量24.38颜色白色PubChemCID66227MDL号MFCD00011317EC号233-136-6cas编
 
2287 浙江
镍含量99.999%抗压强度2600熔点1453℃原子序数28耐腐蚀性强耐氧化性强主要用途军工、航空航天、机械、不锈钢等结构面心立方晶格结构延展性一般外文名Nickel制备方法电解法雾化法密度8.90
 
3318 浙江
Starstrip系列设备是星弧涂层专门研发的退膜设备,主要应用于DLC类膜层的退膜,采用等离子体反应刻蚀工艺对DLC类膜层进行退膜处理。退膜设备的使用给镀膜后不良产品提供了返工重镀的手段,大大降低工
 
1712 江苏
过滤型磁控阴极弧源由磁控阴极和磁过滤弯管组成和金属或金属陶瓷类薄膜的制备。电弧靶采用圆柱的设计,全自动的阴极设计可实现靶面的自动削平的功能,配合离子束流的扫描模块,可大幅提升有效薄膜沉积区域,达到工业
 
1807 江苏
增强型磁控阴极弧源具有离化能力强,靶材利用率高,安装形式和规格多样等特点,配备相应的电源可实现多品种和形式的金属陶瓷涂层生产。增强型阴极电弧源是标准系列产品,星弧也可根据客户的具体需求而客制化设计和制
 
1620 江苏
星弧涂层所提供的磁控溅射溅射阴极具有平衡或非平衡的磁场设计,靶材的离化率和利用率优异,多跑道的设计可用于大批量工业生产,同时使得设备运营成本降低20%以上。磁控溅射阴极是标准系列产品,星弧也可根据客户
 
1679 江苏
离子束源的结构形式为阳极层离子束,它是一种带有闭环电子偏移离子发射通道冷阴极形式的离子源。该离子源由作为冷阴极电子发射源的导磁壳体,离子发射通道和位于通道之下对称分布于壳体之中的阳极构成。连续的通道构
 
1813 江苏
星弧涂层的Sysline连续线是一款提供大批量产品的产高出高效率涂层设备,它的前后两端设计有装卸载真空室并配有相应的缓冲室,涂层工艺采用磁控溅射和离子束两种技术,可实现多层薄膜沉积,可应用于光学、装饰
 
1938 江苏
Jupiter系列设备是提供高品质金属陶瓷类涂层的PVD涂层专用设备,该设备采用增强型磁控阴极弧或非平衡磁控溅射技术。该系列的涂层设备可提供的硬质涂层包括:TinaStar(TiN)、AlaStar(
 
1923 江苏
Diamant系列设备是提供高品质工业级类金刚石涂层的PVD涂层专用设备,该设备集非平衡磁控溅射,离子束,阴级电弧等多种PVD技术为一体,采用具有领先水准的独特设计和工艺,可提供纳米级多层复合DLC涂
 
1850 江苏