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ELITE系列工业高功率全系列MOPA纳秒激光器一体式紧凑型设计,便于集成出色的光斑质量M²<1.2红外、绿光、紫外三种波长可选绿光波段最高功率超过70W脉宽0.1ns~500ns可选重复频率5
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1960 | 江苏 |
FORMULA-D系列工业全系列纳秒激光器宽泛的工作频率范围40-300kHz最高功率可达50W以上的绿光输出可满足7*24工业化生产要求优越的光斑质量M²<1.2支持TTL/PWM信号控制高效
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1767 | 江苏 |
概述应用基于原FORMULA技术平台基础上升级打造的FORMULA（S)一体式高功率水冷纳秒激光器，应用范围广、尺寸小巧、兼容性好、实现了功率自我检测技术。新款FORMULA依然体现了激光器领先的光斑
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1624 | 江苏 |
FIT系列工业低功率全系列纳秒激光器超小尺寸重量轻，仅4kg自动开机&报警输出功能集成一体式控制模块水冷机工作条件宽松概述应用全新推出的FIT系列低功率紫外355nm激光器，外观方面采用干净整
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1798 | 江苏 |
AONANOCOMPACT系列工业低功率全系列纳秒激光器功率实时反馈一键智能功率优化晶体自动换点优越的光束质量(M²<1.2)可满足7*24工业化生产要求紫外输出功率最高可达10W概述应用AON
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1835 | 江苏 |
FOTIA系列工业中功率全系列纳秒激光器更小尺寸出色的光束质量(M²<1.2)散热更出色，功率更稳定功率实时监测一键功率优化一键开机&报警输出功能概述应用基于FOTIA分体机进行优化升级
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2145 | 江苏 |
FORMULA系列工业低功率全系列纳秒激光器最高可达40W的紫外输出功率优越的光斑质量M²<1.2可满足7*24工业化生产要求支持TTL/PWM信号控制高效的腔内倍频技术稳定的长期功率输出概述应
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1674 | 江苏 |
半自动晶圆刷洗机TSC-100/300S该系列设备是晶圆CMP后的专用清洗设备，单工位单腔设计。该系列设备可集成PVA刷洗、兆声清洗、N2吹干、高速甩干等功能，集成度高，适用于各类半导体晶圆的CMP后
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2252 | 北京 |
全自动晶圆刷洗机TSC-150C/200C/200L该系列设备是晶圆抛光后的专用清洗设备，集成全自动上下料系统、双面PVA刷洗、兆声清洗、甩干&N2吹干等单元，集成度高，湿/干进干出，适用于各
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2785 | 北京 |
TMP-150ATMP-200A晶圆尺寸4/6英寸抛光盘规格OD406mm晶圆气囊压力70-500g/cm²保持环压力70-700g/cm²
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2284 | 北京 |
化学机械抛光机TMP-200S/300S该系列设备是适用于薄膜（介质层）的CMP抛光设备，包括氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光。采用多分区气囊加压方式，可实现纳米级精密去除，配
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2485 | 北京 |
全自动化学机械抛光机TPC-2110该设备是适用于薄膜（介质层）的全自动CMP抛光设备，用于氧化物、金属、STI、SOI、MEMS等产品的平坦化抛光。设备兼容6/8英寸晶圆，采用多分区气囊加压方式，可
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3531 | 北京 |
固体蜡贴片机TWB-1150/1360该系列设备桌面式固体蜡贴片机，手动涂蜡、放片，气囊加压自动压片，具备载片加热&冷却功能，蜡层均匀。可选配真空腔体，先抽真空再热压冷却，贴片效果更佳。TWB
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2153 | 北京 |
加压方式硅胶柔性压板工作区域压片时真空环境半自动系统手动放置载片操作系统触摸屏操作程序具备存储调用功能配置丰富配置冷水机提升贴蜡效率
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2102 | 北京 |
固体蜡贴片机TWB-1150S该设备是一款高精度半自动固体蜡贴片机，手动放载片，自动滴蜡、自动取片对中&放片、气囊自动压片，具备载片加热、热压&冷却功能，蜡层均匀，贴蜡效果好。晶圆尺寸
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2100 | 北京 |
半自动液体蜡贴片机TLB-360S/485S该系列设备是半自动液体蜡贴片机，采用手动上片、手动取放搬运陶瓷盘方式，自动完成滴蜡、甩蜡、烘烤、贴片工序，采用气囊压片，贴蜡效果好，精度高
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2233 | 北京 |
全自动液体蜡贴片机TLB-360F/485F/576F该系列设备是全自动液体蜡贴片机，采用机械手全自动上片，配有上下料仓全自动搬运流转陶瓷盘，自动完成晶圆的DIW清洗、滴蜡、甩蜡、烘烤、贴片工序，自动
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2232 | 北京 |
金刚石抛光机TGP-1040/1060/1540series该设备是专门针对金刚石材料开发的抛光设备，具备单轴多工位，抛光盘具备高转速、摆动运行等特点，真空吸附&夹具双重固定金刚石衬底，满足金
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2726 | 北京 |
TAP-500DualTAP-600Dual晶圆尺寸6英寸抛光盘规格OD520mm抛光盘数量2个抛光头数量4个
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2463 | 北京 |
单面抛光机TAP-400/450/500/600series该系列抛光机是双轴高精密单面抛光设备，设备可依据不同晶圆配置相应抛光头，真空吸附固定晶圆，气囊加压，抛光压头自转并兼具摆动功能，适用于各种半
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1922 | 北京 |
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