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设备介绍C3~C9液相物料中吸附脱氧C3~C9液相物料中吸附脱氧还原：AO2+H2—AO+H2O脱氧深度高(<0.1ppm)、副反应少、再生平稳
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1535 | 辽宁 |
HP-1系列氢氛脱氧剂华邦科研团队掌握化学吸附、催化还原、催化氧化、金属吸气等多种核心精制技术，开发了多种物料精制剂，广泛用于化工轻烃精制、超纯气体纯化等多个领域。HP-1系列氢氛脱氧剂华邦科研团队掌
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1629 | 辽宁 |
设备介绍氮气、氩气、空气等气体中高温氧化脱烃、H2、CO等杂质O2+CH4+H2+CO—CO2+H2OAO2+CH4+H2+CO—CO2+H2O+AO脱氧深度高脱除深度高（<0.1ppm）,使用
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1538 | 辽宁 |
设备介绍聚烯烃工业中脱除烯烃及其它辅气中微量CO脱除：CuO+CO—Cu+CO2再生：CU+O2—CuO杂质脱除深度高（<0.1ppm）、吸附容量大设备介绍聚烯烃工业中脱除烯烃及其它辅气中微量C
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1695 | 辽宁 |
设备介绍聚烯烃工业中脱除乙烯、丙烯中的微量砷（胂）杂质脱除深度高（<10ppb）、吸附容量大
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1571 | 辽宁 |
PS系列水解剂、氧化锌脱硫剂华邦科研团队掌握化学吸附、催化还原、催化氧化、金属吸气等多种核心精制技术，开发了多种物料精制剂，广泛用于化工轻烃精制、超纯气体纯化等多个领域。设备介绍轻烃中吸附脱除H2S,
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1606 | 辽宁 |
设备特点活性高：大比表面积担载层，先进的担载工艺，活性组分高度分散。选择性好：应用选择性分子膜（RSM）技术，可有效阻止单烯烃被加氢。
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1500 | 辽宁 |
HP-3系列饱和加氢催化剂设备特点活性高：大比表面积担载层，先进的担载工艺，活性组分高度分散。选择性好：应用选择性分子膜（RSM）技术，可有效阻止单烯烃被加氢。抗磨耗、抗毒性强寿命长：应用活性组分保护
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1496 | 辽宁 |
HP-4系列液相轻烃选择性加氢催化剂设备特点活性高：大比表面积担载层，先进的担载工艺，活性组分高度分散。选择性好：应用选择性分子膜（RSM）技术，可有效阻止单烯烃被加氢。抗磨耗、抗毒性强寿命长：应用活
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1697 | 辽宁 |
适用气体ApplicablegasN2、Ar、H2、He、O2脱除纯度<1ppb流量0.1~100L/min20~3000Nm3/h典型应用电子行业生产线及研发过程化工研究分析焊接
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1713 | 辽宁 |
PX系列—XCDA纯化器纯化系列脱除杂质ppb气体型号纯化工艺H2OCO2挥发性酸VA挥发性碱VB耐熔化合物RC总有机碳TOCXCDAPX吸附(Absorb)<0.1ppb－<10ppt&
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1740 | 辽宁 |
PNH系列—氨气纯化器纯化系列脱除杂质ppb气体型号纯化工艺O2H2OCO2NMHCNH3PNH吸附(Absorb)<1ppb<1ppb<1ppb<1ppb应用领域：纯化用于半
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1682 | 辽宁 |
PC/PCO系列—二氧化碳纯化器纯化系列脱除杂质ppb气体型号纯化工艺CH4O2H2OH2CO挥发性酸VA挥发性碱VB耐熔化合物RC可冷凝有机物Corg不凝有机物NcorgCO2PC吸附(Abs)--
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1833 | 辽宁 |
指标表典型应用应用半导体、LED/激光、太阳能光伏行业气体行业典型应用应用半导体、LED/激光、太阳能光伏行业气体行业
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1468 | 辽宁 |
指标表工艺介绍气体首先通过高温催化氧化工序，将气体中的CH4、CO、H2等，还原性杂质与O2反应转化为H2O和CO2；气体通过多柱吸附工序深度脱除气体中的H2O、CO2等杂质。吸附柱附饱和后可加热再生
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1504 | 辽宁 |
指标表典型应用应用于半导体、LED/激光、太阳能光伏行业气体行业工艺介绍PH7-H：通过吸附工序，脱除气体中的O2、H2O、CO2等杂质，通过吸气柱脱除N2、CH4；PH7-H-A:通过吸附工序,深度
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1564 | 辽宁 |
指标表典型应用半导体、LED、激光、太阳能光伏行业光纤行业气体行业
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1274 | 辽宁 |
指标表典型应用半导体、LED/激光、太阳能光伏行业光纤行业气体行业冷轧行业化工行业工艺介绍气体通过吸附工序，深度脱除气体中的O2、H2O、CO2、CO、H2等杂质；吸附柱吸附饱和后可加热再生、反复使用
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1593 | 辽宁 |
光刻版类型·石英基片·苏打玻璃基片·菲林版工艺能力·2.5英寸-9英寸可定制·苏打版精度±0.3um·石英版精度±0.1um
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1832 | 江苏 |
聚酰亚胺（PI）是现有聚合物材料中耐温性能最好的一种材料，具有优良的化学稳定性和力学性能，因此被认为是极具潜力的一类柔性衬底材料。PI作为一种特种工程材料，已广泛应用在航空、航天、微电子、纳米、液晶、
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1960 | 江苏 |
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